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Kundenspezifische Epitaxieschichten

  • Halbleiter-Schichtstrukturen für LEDs, Laserdioden, Transistoren etc. auf der Basis von (Al,In,Ga)As, (Ga,In)P und (Al,In,Ga)N nach kundenspezifischen Vorgaben
  • Mehrschrittepitaxien für 2D- oder 3D- Strukturierung (z. B. vergrabene Implantationen oder vergrabene Gitter)
  • Versetzungsarme AlN/Saphir Templates
Techniker beim Einlegen von Wafern in den Epitaxiereaktor für die metallorganische Gasphasenepitaxie
Einlegen von Wafern in den Epitaxiereaktor für die metallorganische Gasphasenepitaxie
Epitaxierte Wafer mit Bragg-Gittern
Epitaxierte Wafer mit Bragg-Gittern